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石英玻璃

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石英玻璃（熔融石英）

   
材料: N 系列
产品说明: N 系列和 NP 系列产品都是采用独特的氢氧熔融工艺对高纯度硅粉进行加工而成。N 系列纯度高、铝含量低，且气泡和杂质的含量极低，适用于生产各种半导体材料、计量容器、光学部件、化学处理容器、防紫外线和隔热处理部件等。

N 系列产品还特别适用于半导体生产过程中的等离子蚀刻工艺。

NP 系列产品是 N 系列的增强型产品，其碱含量更低，应用于需要严格控制污染的生产过程中。

提供的 N系列 和 NP系列产品均为 450 mm 晶圆，可用于面积小于 1,200 mm见方的石英锭。


等级 特征
N 标准品位半导体
NP  高纯度品位半导体
   
材料: OP 系列

产品说明:

 OP-1系列 和 OP-3系列产品采用独特的氢氧焰熔融以及在材料内部产生均匀分散气泡的工艺，对高纯度硅粉进行熔融而制成。凭借其纯度高和优异的红外线阻隔性能，OP-1系列产品已成为用于半导体和太阳能制造设备（如 RTP 反应室和用于氧化、扩散和 CVD 间歇炉）的首选隔热材料。

OP-3系列 是 OP-1系列的增强型产品，其碱含量更低，可用于需要严格控制污染的生产过程。

OP-3HD系列比OP-3系列密度更大，且气泡的直径更小，可增强间歇炉的密封性能，并延长其使用寿命。

 OP-1、OP-3 和 OP-3HD系列产品均为 450mm 晶圆，可用于面积在 1,000mm2 以下的圆形和方形石英锭。


等级 特征
OP-1 标准品位半导体
OP-3  高纯度品位半导体
OP-3HD  高密度 OP-3
   
材料: S 级
产品说明:

S 级产品是通过采用独特的氢氧焰熔融工艺对超高纯度合成硅粉进行熔融而制成。具有极高的纯度且完全不含杂质，被誉为半导体制造行业的升级换代材料。

S 级产品为 450 mm 晶圆，可用于面积在1,200mm2 以下的石英锭。

   
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光学石英玻璃

   
材料: ES 系列
产品说明:
ES 石英锭由高纯度 SiCl4 制成，采用了氢氧焰熔融工艺。

生产大型LCD 光掩膜等部件时，可以将 ES 石英锭重新熔融后加工为矩形石英锭。

通常 ES 石英锭的各项纯度指标均低于常规的检测极限 (10ppb)，并且不含气泡和杂质。

所以ES系列产品是第十代LCD光掩模的首选材料，也广泛用于尖端光刻机（KrF 和 ArF）和其他光学用途。

   
材料: ED-H
产品说明:

ED-H 石英锭的原料为高纯度 SiCl4 ，采用VAD工艺生产制成。

其各项纯度指标均低于常规的检测极限 (10ppb)，并且不含气泡和杂质。

ED-H 产品中 OH 含量小于 100ppm，在紫外线下具有优异的传输特性，非常适合于 170nm 以下的真空紫外线 (VUV) 用途。

   
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